CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

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6H-SiC单晶紫外光催化抛光中光照方式和磨料的影响

路家斌 熊强 阎秋生 王鑫 宾水明

路家斌, 熊强, 阎秋生, 王鑫, 宾水明. 6H-SiC单晶紫外光催化抛光中光照方式和磨料的影响[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2019, 39(3): 29-37. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2019.3.0006
引用本文: 路家斌, 熊强, 阎秋生, 王鑫, 宾水明. 6H-SiC单晶紫外光催化抛光中光照方式和磨料的影响[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2019, 39(3): 29-37. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2019.3.0006
LU Jiabin, XIONG Qiang, YAN Qiusheng, WANG Xin, BIN Shuiming. Effects of lights modes and abrasives on UV-photocatalysis assisted polishing of 6H-SiC single crystal[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2019, 39(3): 29-37. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2019.3.0006
Citation: LU Jiabin, XIONG Qiang, YAN Qiusheng, WANG Xin, BIN Shuiming. Effects of lights modes and abrasives on UV-photocatalysis assisted polishing of 6H-SiC single crystal[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2019, 39(3): 29-37. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2019.3.0006

6H-SiC单晶紫外光催化抛光中光照方式和磨料的影响

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2019.3.0006
基金项目: 

国家自科学基金项目(51375097)

NSFC-广东省联合基金(U1801259)。

详细信息
    作者简介:

    路家斌, 男, 1970年生,博士,教授。主要研究方向:光电子/微电子硬脆材料超精密加工理论与技术、金属板材精密分切加工理论与技术等。E-mail: lujiabin@gdut.edu.cn

    通讯作者:

    阎秋生,男,1962年生,博士,教授。主要研究方向:光电子/微电子硬脆材料超精密加工理论与技术、材料节能节材加工技术、数控技术及其装备开发应用等。E-mail: qsyan@gdut.edu.cn

  • 中图分类号: TG73;TG58;TQ164

Effects of lights modes and abrasives on UV-photocatalysis assisted polishing of 6H-SiC single crystal

  • 摘要: 研究紫外光辅助催化抛光6H-SiC单晶。用分光光度法定性检测不同光催化反应时间下甲基橙颜色变化和羟基自由基(·OH)浓度,研究无光照、光照抛光盘、光照抛光液3种光照方式及金刚石、碳化硅、二氧化硅、二氧化钛、硅溶胶5种磨料对6H-SiC单晶抛光的影响。结果表明:随着光照时间增加,·OH浓度增加;在3种光照方式下,不同磨料的材料去除率(MRR)均呈现光照抛光液>光照抛光盘>无光照的规律,且光照抛光液时的MRR比无光照时的MRR提升了18%~58%。随磨料硬度降低,光催化辅助作用对MRR的提高幅度升高,即紫外光催化辅助作用越明显;金刚石、碳化硅、二氧化硅、硅溶胶4种磨料抛光后的表面粗糙度都随MRR的增大而减小,但二氧化钛磨料的则相反,原因是二氧化钛磨料同时兼作光催化剂,增强了SiC表面的化学反应速率,使其化学反应速率大于机械去除速率。

     

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出版历程
  • 修回日期:  2019-05-23
  • 网络出版日期:  2022-04-06

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