CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

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氮化硅陶瓷ELID磨削预修锐与氧化膜成膜的影响因素

万林林 刘志坚 邓朝晖 刘伟

万林林, 刘志坚, 邓朝晖, 刘伟. 氮化硅陶瓷ELID磨削预修锐与氧化膜成膜的影响因素[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2017, 37(2): 55-61. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.2.0012
引用本文: 万林林, 刘志坚, 邓朝晖, 刘伟. 氮化硅陶瓷ELID磨削预修锐与氧化膜成膜的影响因素[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2017, 37(2): 55-61. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.2.0012
WAN Linlin, LIU Zhijian, DENG Chaohui, LIU Wei. Influence factors of pre-dressing and oxide film forming when ELID grinding silicon nitride ceramic[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2017, 37(2): 55-61. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.2.0012
Citation: WAN Linlin, LIU Zhijian, DENG Chaohui, LIU Wei. Influence factors of pre-dressing and oxide film forming when ELID grinding silicon nitride ceramic[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2017, 37(2): 55-61. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.2.0012

氮化硅陶瓷ELID磨削预修锐与氧化膜成膜的影响因素

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.2.0012
基金项目: 

国家自然科学基金(51405152);湖南省自然科学基金(2017JJ2092)。

详细信息
    作者简介:

    万林林,男,1984年生,博士、副教授。主要从事工程陶瓷等难加工材料高效精密制造技术的研究。E-mail:wanlinlin@hnust.edu.cn

  • 中图分类号: TG58;TH145

Influence factors of pre-dressing and oxide film forming when ELID grinding silicon nitride ceramic

  • 摘要: 针对氮化硅陶瓷回转曲面零件高效低损伤的加工要求,设计适用于回转面加工的在线电解修整(ELID)磨削实验装置,在数控坐标磨床上进行预修锐实验。基于平行电极电解池模型,建立预修锐时间与氧化膜成膜厚度的关系模型,分析占空比和极间间隙对成膜效果的影响规律。结果表明:工艺参数对预修锐时间的影响程度依次为占空比>电解液流量>砂轮转速>脉冲频率。采用田口方法获得最优工艺参数组合为占空比0.75,脉冲频率50kHz,砂轮转速9 000r/min,电解液流量1.0 L/min。

     

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出版历程
  • 修回日期:  2017-02-10
  • 网络出版日期:  2022-07-12

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