化学机械抛光超薄SUS304不锈钢抛光液研究

秦洪权; 王永胜; 李庆; 陈佳鹏; 刘振辉; 苏建修

doi:10.13394/j.cnki.jgszz.2016.6.0006

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化学机械抛光超薄SUS304不锈钢抛光液研究

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.6.0006

1. 河南理工大学机械与动力工程学院, 河南焦作 454000;
2. 驻马店技师学院机械工程系, 河南驻马店 463000;
3. 河南科技学院机电学院, 河南新乡 453003

基金项目:

国家自然科学基金面上项目资助（NO.51375149）

详细信息

作者简介:
秦洪权,男,1994年生,硕士研究生。研究方向为超精密加工。E-mail:1375829173@qq.com;苏建修,男,1963年生,教授、博士、硕士研究生导师。研究方向为超精密加工。E-mail:dlutsu2004@126.com

中图分类号: TG73;TG58
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出版历程
- 修回日期: 2016-10-03
- 网络出版日期: 2022-07-27

Polishing slurry of chemical mechanical polishing SUS304 ultrathin stainless steel sheet

1. School of Mechanical and Power Engineering, Henan Polytechnic University, Jiaozuo 454000, China;
2. Department of Mechanical Engineering, Zhumadian Technician College, Zhumadian 463000, China;
3. School of Mechanical and Electrical Engineering, Henan Institute of Science andTechnology, Xinxiang 453003, China

摘要

摘要: 柔性显示已成为下一代显示技术的研究热点，不锈钢材料是柔性大尺寸显示器衬底的主要材料之一。为优化不锈钢表面的超光滑无损伤加工，采用化学机械抛光（CMP）技术，通过正交试验，研究磨料粒度尺寸、分散剂、氧化剂、磨料质量、缓蚀剂用量等因素对抛光后材料去除率和表面粗糙度的影响。试验结果表明：磨料粒度尺寸对表面粗糙度的影响最大，其次为双氧水、丙三醇、草酸、磨料质量；影响材料去除率的因素排列是磨料粒度尺寸、磨料含量、丙三醇含量、草酸含量、双氧水含量。
- 304不锈钢片 /
- 化学机械抛光 /
- 抛光液 /
- 材料去除率 /
- 表面粗糙度
Abstract: Flexible display has become a research hot spot as next generation display technology and stainless steel is one of the main materials of flexible large size display substrate. To realize a super-smooth no-damage surface on stainless steel,chemical mechanical polishing(CMP) is adopted. The influence of abrasive size and contents of dispersion agent,oxidant agent,abrasive and corrosion inhibitor agent on the material removal rate and the surface roughness of CMP 304 stainless steel had been studied by orthogonal tests. The results show that abrasive size has the most significant effect on the surface roughness,followed by contents of H₂O₂,glycerol,oxalic acid,abrasive in turn. The abrasive size has the maximum effect on the material removal rate,followed by contents of abrasive,glycerol,oxalic acid and H₂O₂.
- 304 stainless steel /
- chemical mechanical polishing /
- polishing liquid /
- material removal rate /
- surface roughness